我國在潔凈工程的發(fā)展狀況
2016-06-23 07:52:16 作者:admin 出處:科瓦特
我國的潔凈技術(shù)和設備與國外 國家相比相距是明顯的,我國1965年才開始生產(chǎn)的HEPA,經(jīng)國外晚了
十五年。1975年開始生產(chǎn)的光散射塵埃粒子計數(shù)器比國外晚了二十年。0.1微米潔凈技術(shù)和設備在 上先
進國家已成為成熟技術(shù),我國則剛剛起步。
十五年。1975年開始生產(chǎn)的光散射塵埃粒子計數(shù)器比國外晚了二十年。0.1微米潔凈技術(shù)和設備在 上先
進國家已成為成熟技術(shù),我國則剛剛起步。
世界各工業(yè) 國家為適應超凈技術(shù)的發(fā)展,對大量使用的高效過濾器的研究從未中斷,幾年來一起在開
發(fā)不同結(jié)構(gòu)不同性能的新產(chǎn)品,美國自1979年開始研制0.1微米ULPA過濾器,1984攫美國AAF公司開始生產(chǎn)
0.1微米無隔板ULPA過濾器,目前,為0.1微米ULPA過濾器在美國 AAF公司、FLANDERS公司和CAMBRIDG
公司已形成商品生產(chǎn)。日本也已成為世界上生產(chǎn)0.1微米ULPA過渡器廠家最多的國家,品種繁多,產(chǎn)品系列
化,尤其是低壓損型0.1微米ULPA過濾器的開發(fā)成功解決了初阻力大的技術(shù)難題。 市場對高效空氣過渡
器的需要量很大,且每年均有增長,目前日本每年銷售超過100萬臺,按每臺平均價格200美元計算,銷售
額達2億美元。我國高效空氣過渡器的需要量已接近每年10萬臺,占 市場的2%~4%,但至今還沒有
0.1微米ULPA過渡器生產(chǎn),用于越大規(guī)模集成電路生產(chǎn)潔凈廠房及各種高科技領(lǐng)域潔凈廠房的0.1微米
ULPA過濾器目前還依賴進口。
發(fā)不同結(jié)構(gòu)不同性能的新產(chǎn)品,美國自1979年開始研制0.1微米ULPA過濾器,1984攫美國AAF公司開始生產(chǎn)
0.1微米無隔板ULPA過濾器,目前,為0.1微米ULPA過濾器在美國 AAF公司、FLANDERS公司和CAMBRIDG
公司已形成商品生產(chǎn)。日本也已成為世界上生產(chǎn)0.1微米ULPA過渡器廠家最多的國家,品種繁多,產(chǎn)品系列
化,尤其是低壓損型0.1微米ULPA過濾器的開發(fā)成功解決了初阻力大的技術(shù)難題。 市場對高效空氣過渡
器的需要量很大,且每年均有增長,目前日本每年銷售超過100萬臺,按每臺平均價格200美元計算,銷售
額達2億美元。我國高效空氣過渡器的需要量已接近每年10萬臺,占 市場的2%~4%,但至今還沒有
0.1微米ULPA過渡器生產(chǎn),用于越大規(guī)模集成電路生產(chǎn)潔凈廠房及各種高科技領(lǐng)域潔凈廠房的0.1微米
ULPA過濾器目前還依賴進口。
在潔凈室建設規(guī)模的技術(shù)水平上,我國與 國家差距更大。日本清水建設公司一家,1982年到1987年
期間承建的潔凈室面積達81.8萬平方米,而這期間,我國一年承建的潔凈室總面積還不到10萬平米,但八五
期間有較大發(fā)展,1993年承建潔凈室總面積已接近15萬平方米。美國的潔凈室建設規(guī)模更大,1998年統(tǒng)計
已達188.5萬平方米。在潔凈室工程技術(shù)水平上,80年代末期,國外已大量建成0.1微米級的超凈室,1987年
日本三洋新瀉工場建成十級潔凈廠房3000平方米,NIT原木則建成了四個1000平方米控制0.1微米塵埃的千級
廠房,換氣次數(shù)高達300次/分。
美國在臺灣的TSMCS新廠已建成第四代管道式潔凈室總面積達10000平方米。我國使用的0.1微米十級潔
凈室主要依賴從國外進口。由于高潔凈級別的潔凈室造價十分昂貴,0.1微米十級潔凈室每平方米造價高達
1萬美元以上。在大規(guī)模集成電路制造裝備的投資中潔凈廠房占有相當高的比例,這與集成電路工藝不斷更
新,產(chǎn)品更新?lián)Q代周期越來越快的發(fā)展趨勢不相適應,嚴重制約了大規(guī)模集成電路技術(shù)的發(fā)展。美國
ASYAT公司、德國MW公司發(fā)展的使用隔離技術(shù)的亞微米環(huán)境系統(tǒng)設備和技術(shù)在近幾年中得到廣泛采用。
該項最新的潔凈技在100級潔凈度的潔凈廠房中,采用工藝設備局部使用隔離技術(shù)的微環(huán)境,把投資比例
壓縮到高級別的微環(huán)境,消除了操作者與工藝設備運行的二次污染源生產(chǎn)對集成電路成品率和可靠性的影
響作用。
期間承建的潔凈室面積達81.8萬平方米,而這期間,我國一年承建的潔凈室總面積還不到10萬平米,但八五
期間有較大發(fā)展,1993年承建潔凈室總面積已接近15萬平方米。美國的潔凈室建設規(guī)模更大,1998年統(tǒng)計
已達188.5萬平方米。在潔凈室工程技術(shù)水平上,80年代末期,國外已大量建成0.1微米級的超凈室,1987年
日本三洋新瀉工場建成十級潔凈廠房3000平方米,NIT原木則建成了四個1000平方米控制0.1微米塵埃的千級
廠房,換氣次數(shù)高達300次/分。
美國在臺灣的TSMCS新廠已建成第四代管道式潔凈室總面積達10000平方米。我國使用的0.1微米十級潔
凈室主要依賴從國外進口。由于高潔凈級別的潔凈室造價十分昂貴,0.1微米十級潔凈室每平方米造價高達
1萬美元以上。在大規(guī)模集成電路制造裝備的投資中潔凈廠房占有相當高的比例,這與集成電路工藝不斷更
新,產(chǎn)品更新?lián)Q代周期越來越快的發(fā)展趨勢不相適應,嚴重制約了大規(guī)模集成電路技術(shù)的發(fā)展。美國
ASYAT公司、德國MW公司發(fā)展的使用隔離技術(shù)的亞微米環(huán)境系統(tǒng)設備和技術(shù)在近幾年中得到廣泛采用。
該項最新的潔凈技在100級潔凈度的潔凈廠房中,采用工藝設備局部使用隔離技術(shù)的微環(huán)境,把投資比例
壓縮到高級別的微環(huán)境,消除了操作者與工藝設備運行的二次污染源生產(chǎn)對集成電路成品率和可靠性的影
響作用。
潔凈技術(shù)和裝備的 市場十分巨大,日本到80年代末、90年代初潔凈技術(shù)和設備的銷售額已突破35億
美元。美國和西歐等 國家潔凈設備的基礎部件的銷售額憶達73億美元。據(jù)中國電子專用設備工業(yè)協(xié)會
統(tǒng)計,我國主要八家最大的凈化設備廠的銷售額在1990年為8217萬無,還不足1億,1993年達到14495萬元,
占 市場銷售額的0.34%。但隨著我國高新技術(shù)的迅速發(fā)展和微電子工業(yè)、光纖工業(yè)、液晶顯示工業(yè)及光
電器件工業(yè)、生物工程、醫(yī)藥工業(yè)的發(fā)展,我國潛在的巨大的潔凈技術(shù)產(chǎn)品市場,以每年40%~50%的增長
速度在增加。
美元。美國和西歐等 國家潔凈設備的基礎部件的銷售額憶達73億美元。據(jù)中國電子專用設備工業(yè)協(xié)會
統(tǒng)計,我國主要八家最大的凈化設備廠的銷售額在1990年為8217萬無,還不足1億,1993年達到14495萬元,
占 市場銷售額的0.34%。但隨著我國高新技術(shù)的迅速發(fā)展和微電子工業(yè)、光纖工業(yè)、液晶顯示工業(yè)及光
電器件工業(yè)、生物工程、醫(yī)藥工業(yè)的發(fā)展,我國潛在的巨大的潔凈技術(shù)產(chǎn)品市場,以每年40%~50%的增長
速度在增加。
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